對(duì)高純化工原料試劑或高純?cè)丶儍舳然螂s質(zhì)含量的檢測(cè)，一般常見分子光譜圖、分子光譜分析法、色譜儀、質(zhì)譜分析比色計(jì)化學(xué)成分分析等方式 開展測(cè)量。其陽(yáng)離子規(guī)格型號(hào)正常情況下參考試劑優(yōu)等品規(guī)范，沒有優(yōu)等品規(guī)范的商品由生產(chǎn)制造企業(yè)自主制訂。依據(jù)主要用途不一樣，把高純化工原料試劑又分為幾類：
一般離純?cè)噭?br/>就是指一些高純氫氧化物金屬材料、金屬氧化物、金屬材料酸鹽等，常見于核能工業(yè)生產(chǎn)原材料、電子工業(yè)原材料、半導(dǎo)體材料基本原材料等，金屬單質(zhì)的金屬氧化物、用于配置標(biāo)液和做為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，此類試劑常規(guī)定含量在4N-6N中間。
潔凈電子器件純?cè)噭?br/>潔凈高純?cè)噭┦羌呻娐沸酒↖C）生產(chǎn)制造加工工藝中的專用型化工品，用以硅片清洗、光刻技術(shù)、浸蝕工藝流程中。對(duì)這類高純?cè)噭┲锌扇茈s質(zhì)和固體粒子規(guī)定十分嚴(yán)苛，為融入IC處理速度持續(xù)提升的要求，國(guó)際性上半導(dǎo)體材料行業(yè)協(xié)會(huì)（SemiconductorIndustryAssociation）近期發(fā)布Semic7(合適0.8-1.2μm生產(chǎn)工藝)和Semic8(合適于0.2-0.6μm生產(chǎn)工藝)等級(jí)的試劑產(chǎn)品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。在我國(guó)在原來(lái)MOS級(jí)、BV-I級(jí)試劑的基本上，又制訂出BV-II級(jí)和BV-III級(jí)試劑規(guī)范（等同于Semic7）。我研究室也研發(fā)多種多樣MOS級(jí)、BV-I級(jí)BV-II級(jí)和一部分BV-III級(jí)試劑，其顆粒度（0.5粒子顆粒物）≤25-一百個(gè)∕ml，金屬材料雜質(zhì)總產(chǎn)量≤10-3—10-5﹪
光刻膠高純?cè)噭?br/>光刻技術(shù)是一種表層生產(chǎn)加工技術(shù)性，在半導(dǎo)體材料電子元器件和集成電路芯片生產(chǎn)制造中占據(jù)關(guān)鍵影響力。為在表層完成可選擇性浸蝕，選用一類具備抗蝕功效的光感應(yīng)復(fù)合樹脂做為抗蝕鍍層，稱之為抗蝕劑，中國(guó)統(tǒng)稱光刻膠。依照溶解性的不一樣而將光刻膠分成“正性”光刻膠和“負(fù)性”光刻膠，按常用曝出燈源和輻射源燈源的不一樣，又可將其分成紫外線、遠(yuǎn)紫外線、離子束、X射線等光刻膠。
光刻膠是細(xì)微圖型生產(chǎn)加工的一種重要試劑，規(guī)定水份低、金屬材料雜質(zhì)含量低（≤10-6）
磨打磨拋光高純?cè)噭?br/>就是指用以硅單晶片表層的碾磨和打磨拋光的高純度試劑。它又分研磨成粉（三氧化二鋁）和磨液（水和除油劑），能碾磨表層做到μm級(jí)加工精度。這類試劑規(guī)定顆粒物粒度分布小（納米技術(shù)），純凈度高，金屬材料雜質(zhì)一般規(guī)定2.0×10-4—5×10-5﹪
lcd屏高純?cè)噭?br/>lcd屏是一類電子器件化工材料，就是指在一定溫度范圍內(nèi)展現(xiàn)接近固相和高效液相中間的正中間相的有機(jī)化合物。它不僅有液體的流通性也是有晶態(tài)的各種各樣，有時(shí)候人叫他為第四態(tài)。